PVD真空镀膜原理是什么

目前常用的PVD有三种:真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀;它们的工作原理如下:1、真镀空膜:是在适当的压强下用电子束等热源加热材料使之蒸发,蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层;

2、溅射镀膜:是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法,施镀时,将工作室抽成真空,冲入氩气做为工作气体,并保持其压力为0.13至1、33帕;

3、离子镀:是在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离子化,在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下,把蒸发物质或其他反应物蒸镀在工件上。

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